MA PORE APPRET C

マ ポア アプレ C
[メイクアップベース]13g
MA PORE APPRET C
MA PORE APPRET C-1
MA PORE APPRET C
MA PORE APPRET C-1

MA PORE APPRET C

マ ポア アプレ C
[メイクアップベース]13g
4,200(税抜/税込4,620円)
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スキンケア効果を備えた毛穴ケア下地

毛穴やテカリが気になる部分にひと塗りで肌をフラットに整え、まるでヴェールを纏ったような美しい肌へと仕上げます。
メイク直しやメイク下地としてはもちろん、休日やメイクをしない日の素肌にもお使いいただけます。

※商品の改良等に伴い成分や表示内容、パッケージが変更になる場合がございます。
整肌成分のリゾホスファチジン酸とビタミンC誘導体配合で、毛穴を補正しながらしっかりとケアします。
※LPA(リゾホスファチジン酸 / 整肌成分)配合
※ビタミンC誘導体配合
メイク前の下地・日中のメイク直し、休日やメイクをしない日の素肌にもご使用いただけます。

<毛穴やテカリが気になる時に>
スキンケア後、メイク下地として毛穴や皮脂崩れが気になる部分へ直接塗布しメイクを始めてください。

<メイク崩れを直したい時に>
メイク直しの際は、崩れた箇所を拭き取った後に本品を優しく湿布し、メイク下地・ファンデーションなどのステップへおすすみください。

<お休みの日の素肌メイクに>
休日やメイクをしない日の素肌にも直接お使い頂け、肌を均一に整え、素肌感を底上げします。またひげ剃り後にも使用できるので男性にもおすすめです。

全成分・原産国

[全成分]
ジメチコン、シクロペンタシロキサン、(ジメチコン/ビニルジメチコン)クロスポリマー、テトラヘキシルデカン酸アスコルビル、ポリメチルシルセスキオキサン、リゾホスファチジン酸、リゾレシチン、グリセリン、リンゴ酸ジイソステアリル、シリル化シリカ、トリイソステアリン酸ポリグリセリル-2、(ジメチコン/(PEG-10/15))クロスポリマー、レシチン、トコフェロール、フェノキシエタノール、DPG、クエン酸Na、酸化チタン、酸化鉄、水酸化Al

[原産国]
日本

ご注意事項

●お肌に異常が生じていないかよく注意して使用してください。 ●傷やはれもの、湿疹等、異常のある時はお使いにならないでください。 ●使用中、使用後又は使用したお肌に直射日光があたって、赤み、はれ、かゆみ、刺激、色抜け(白斑等)や黒ずみ等の異常があらわれた時は使用を中止し、皮膚科専門医等へのご相談をおすすめします。そのままご使用を続けますと症状を悪化させることがあります。 ●目に入った時は、水かぬるま湯で直ちに洗い流してください。 ●極端に高温又は低温の場所、直射日光のあたる場所には保管しないでください。 ●ご使用後はしっかりとキャップを閉めてください。 ●乳幼児の手の届かないところに保管してください。 ●衣服等につきますと落ちないことがありますのでご注意ください。 ●定められた用途以外には使用しないでください。